1. ![](http://ecatalog.rasl.ru:8080/irbis64r_11/images/printer.jpg)
|
Вид документа : Статья из журнала Шифр издания :
Автор(ы) : Terekhov V.A., Terukov E.I., Undalov Yu.K., Barkov K.A., Kurilo N.A., Ivkov S.A., Nesterov D.N., Seredin P.V., Goloshchapov D.L., Minakov D.A., Popova E.V., Lukin A.N., Trapeznikova I.N.
Заглавие : Effect of Plasma Oxygen Content on the Size and Content of Silicon Nanoclusters in Amorphous SiOx Films Obtained with Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition
Место публикации : Symmetry. - 2023. - Vol.: 15, №: 9. - С. 1800
Найти похожие
|