1. | Effect of Plasma Oxygen Content on the Size and Content of Silicon Nanoclusters in Amorphous SiOx Films Obtained with Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition [Текст] / V. A. Terekhov, E. I. Terukov [и др.] // Symmetry. - 2023. - b Vol./b : 15, b №/b : 9. - С. 1800
Доп.точки доступа: Terekhov, V.A.; Терехов В.А.; Terukov, E.I.; Теруков Е.И.; Undalov, Yu.K.; Ундалов Ю.К.; Barkov, K.A.; Барков К.А.; Kurilo, N.A.; Курило Н.А.; Ivkov, S.A.; Ивков С.А.; Nesterov, D.N.; Нестеров Д.Н.; Seredin, P.V.; Середин П.В.; Goloshchapov, D.L.; Голощапов Д.Л.; Minakov, D.A.; Минаков Д.А.; Popova, E.V.; Попова Е.В.; Lukin, A.N.; Лукин А.Н.; Trapeznikova, I.N.; Трапезникова И.Н. Найти похожие
| |